ONDO Hyaluronic Acid & Algae Moisture Boosting Mask Chok-Chok

ONDO | Hyaluronic Acid Algae Moisture Boosting Mask Chok-Chok - 25 g Beschreibung: Die Hyaluronic acid algae moisture boosting mask von ONDO ist die feuchtigkeitsspendendste Maske. Die ist beruhigend, reinigend und porenverkleinernd, geeignet für alle Hauttypen. Sie besteht zu 88 % aus Hamameliswasser, das beruhigt und die Poren reinigt, und enthält 2 % Niacinamid, das aufhellt und die Hautbarriere stärkt, sowie Hyaluronsäure und einen 1% hydratisierenden Zuckerkomplex, der die Haut weich und elastisch hält. Die biologisch abbaubare Tuchmaske ist angenehm zu tragen. Diese Maske ist ideal, wenn du ein gesundes, taufrisches Hautbild suchst.

Korean Skincare Produkttyp: Koreanische Gesichtsmaske

Trage die Maske nach der Reinigung auf dein Gesicht auf und glätte sie sanft mit den Fingern. Entspanne dich und geniesse das leichte Zitrusaroma. Lasse die Maske 10 bis 15 Minuten einwirken und entferne sie dann. Massiere das restliche Produkt in Hals, Brust, Arme und Hände ein. Wir empfehlen mindestens zweimal pro Woche eine Maske.

Hamamelis Virginiana (Witch Hazel) Water, Glycerin, Dipropylene Glycol, Niacinamide, 1,2-Hexanediol, Sea Water, Macrocystis Pyrifera (Kelp) Extract, Gelidium Cartilagineum (Red Algae) Extract, Laminaria Japonica (Brown Algae) Extract, Codium Tomentosum Extract, Ecklonia Cava Extract, Enteromorpha Compressa Extract, Zostera Marina Extract, Pancratium Maritimum Extract, Sodium Hyaluronate, Xylitol, Xylitylglucoside, Anhydroxylitol, Allantoin, Magnesium PCA, Zinc PCA, Sodium PCA, Tocopherol, Citrus Aurantium Bergamia (Bergamot) Fruit Oil, Rosmarinus Officinalis (Rosemary) Leaf Oil, Betaine, Aqua (Water/Eau), Butylene Glycol, Caprylyl Glycol, Pentylene Glycol, Polyglyceryl-10 Laurate, Sodium Phytate, Xanthan Gum, Ethylhexylglycerin, Carbomer, Tromethamine, Limonene*. *Naturally occurring in essential oils.

Ondo Cosmetic Co., Ltd. 2/F, 88-83 Sudo-ro, Bucheon-si, Gyeonggi-do, 14519, Republic of Korea.